设备
光刻
- OAI 204型掩模对准器
- Quintel Q4000掩模对准器
- 劳雷尔WS-400旋转涂布机
- 劳雷尔WS-650旋转涂布机
- 布鲁尔科学CEE旋转开发
等离子体刻蚀
- 三月CS-1701等离子蚀刻机
湿处理
- 潮湿的长椅
- 旋转漂洗烘干机
金属沉积
- Denton Explorer 14溅射沉积系统
- 基于长丝的薄膜蒸发器
- 坩埚薄膜蒸发器
热处理
- 氧化扩散炉
- 退火炉
计量及测试
- Signatone半导体探测站
- HP4145半导体参数分析仪
- C-V试验台
- Filmetrics F20-UV反射计
- nanospec210薄膜反射计
- nanospec4000薄膜反射计
- Filmetrics Profilm3D光学分析器
- 4点探测器
